開(kāi)口處的(de)油墨可(k£​✔ě)能(néng)凝固，從(cóng)而導緻噴嘴堵塞或者在打印時 σ(shí)蹭髒打印介質，嚴重影(yǐng)響打印質量。為(w≥∑♣èi)了(le)防止噴嘴堵塞或者蹭髒打印&∏'✘介質，需要(yào)對(duì)噴嘴表面進行(xíngλ♣)及時(shí)清理(lǐ)。

　　清理(lǐ)打印噴嘴的(de)方法一(yī)般有(yǒ←​"u)3種：一(yī)是(shì)驅動流體β®•β(tǐ)通(tōng)過噴嘴的(de)外(wài)側; 二是(₽₹ ₽shì)使用(yòng)擦拭結構;三是(↕ ☆βshì)使用(yòng)清洗液。其中，使™€♠用(yòng)擦拭結構對(duì)打印噴嘴表面進行(π↔₩$xíng)清理(lǐ)是(shì)目前最常用(yòng)₩♦的(de)清理(lǐ)方式。而如(rú)何使用(yòng)擦拭結構使打↓π×印噴嘴的(de)表面得(de)到(dào)更好(hǎo)的(de)清理 ‌(lǐ)效果，成為(wèi)業(yè)內(nè↔♣•"i)亟待解決的(de)問(wèn)題。

　　本文(wén)針對(duì)使用(yòng)擦拭結構對(duì)Ω∑✔打印噴嘴進行(xíng)清理(lǐ)領域，分(fēn)别從(cóng)專利申☆₽₹£請(qǐng)趨勢、技(jì)術(shù₩&)來(lái)源、技(jì)術(shù)分(fēn)₽​ <布、主要(yào)創新主體(tǐ)等維度對(duì)其專☆β 利發展現(xiàn)狀進行(xíng)了(le)分(fēn)析。

　　技(jì)術(shù)發展狀況分(fēn)↓ε析

　　1. 專利申請(qǐng)趨勢分(fēn)析

　　圖 1 所示為(wèi)使用(yòng)✔•φ擦拭結構對(duì)打印噴嘴表面進行(xínπβ₹"g)清理(lǐ)領域的(de)全球專利申請(qǐng)趨♦✘勢。分(fēn)析可(kě)知(zhī)，近φ≥☆(jìn) 20 年(nián)來(lái)，該領域的(de)全球專利申$'請(qǐng)量呈波動發展态勢。2016 之前，每年(nián)專利申請(q↕'≤↕ǐng)量大(dà)多(duō)在 200 ～ 300 件(jiàn)㱩之間(jiān)，變化(huà)幅度不(bù)大(dà)，可(kě)以認§♦為(wèi)是(shì)行(xíng)業(yè)成長×$<(cháng)期，技(jì)術(shù)研發進度緩慢(m× ♣àn)，創新成果産出量相(xiàng)對π αλ(duì)較少(shǎo)。自(zì) 2017 年(nián)開(kāiπ​)始，該領域專利申請(qǐng)量顯著上(shàng)升，每年(nián)申請ε‍<(qǐng)量突破 300 件(jiàn)，2019 年(niá↕φ★n)達到(dào)近(jìn)年(nián φ)峰值 413 件(jiàn)，可(kě)見(j₹♠‍iàn)該領域技(jì)術(shù)研究和(hé)專利保護進入快(₩≈™kuài)速提升階段，創新主體(tǐ)的(de)專利布局規♥₹<↑模不(bù)斷擴大(dà)。而近(jìn)兩年(€✘&nián)專利申請(qǐng)量出現(xiàn)明(míng)顯下(xià¶‍₽)降，是(shì)由于專利申請(qǐng)從(cóng)提交到(dào)公開(→‍✔<kāi)需要(yào)一(yī)定時(shí)間(jiān)，因&•₽☆此一(yī)部分(fēn)專利申請(qǐσ∏ng)還(hái)沒有(yǒu)進入公開(kāi)階段，無法進行(xíng)π ↑統計(jì)，因此僅供參考。

　　2. 專利技(jì)術(shù)來(lái)源分(fēn)析

　　圖 2 所示為(wèi)該領域專利技(jì)∞↕€σ術(shù)來(lái)源分(fēn)布情況。分(f ↓Ωαēn)析可(kě)知(zhī)，該領域全 球專利申請(qǐng) ​ו中有(yǒu) 50% 以上(shàngφ ‌)來(lái)源于日(rì)本，申請(qǐng)量達到(dà'₽o) 3511 件(jiàn)，獨占鳌頭，可(kě)見(jiàn)日(rì)本¥'λ★創新主體(tǐ)在該領域的(de)技(jì)←$€術(shù)研究處于絕對(duì)優勢地(dì)位;↓$其次是(shì)美(měi)國(guó)，專利¶×申請(qǐng)量占比 16.8%，排名第二位β₹¥<，說(shuō)明(míng)美(měi)國(guó)創新主體(π♦₩tǐ)在該領域也(yě)有(yǒu)較深 ₽₩入的(de)研究，專利布局規模僅次于日(rì)本;另外(wài)，愛(ài∏'λ≠)爾蘭的(de)專利占比為(wèi) 8.4%，名列第♠™Ω三，創新實力也(yě)不(bù)容小(xiǎo)觑;韓國(guó)和(hé≥<&¥)澳大(dà)利亞的(de)專利占比略超 5%，創新實力差距不(bù← ←♦)大(dà);而中國(guó)的(de) €專利占比僅為(wèi) 3.4%，說(shuō)明(mí‍σng)我國(guó)創新主體(tǐ)在該領​₽$↕域的(de)技(jì)術(shù)研究相(α×®xiàng)對(duì)較少(shǎo)，創新實力還(h•εái)有(yǒu)待提升。

　　3. 主要(yào)創新主體(tǐ)分(fēn₹↕ε£)析

　　圖 3 所示為(wèi)該領域全球主要(y✘≥ào)創新主體(tǐ)的(de)排名情況。分(fēn)析可(kě)知(zhī¶♠₽)，排名前十的(de)創新主體(tǐ)中，日(rì)本企業(yè)λ§有(yǒu) 6家(jiā)，可(kě)見(jiàn)日(β€rì)本創新主體(tǐ)在該領域具有(yǒu)不( ¶bù)可(kě)小(xiǎo)觑的(de)實δ✔力。全球除了(le)日(rì)本企業(yè)在該領域占"÷有(yǒu)絕對(duì)的(de)優勢之外(wài)，美(měi)國(>β☆guó)的(de)惠普公司也(yě)有(yǒ±¶u)較強的(de)競争力，其研發投入以及專利申≥≤請(qǐng)量排名全球第三。另外(wài)，愛(ài)爾蘭的(de♠₹↑≠)馬姆傑特科(kē)技(jì)也(yě)具有("±yǒu)一(yī)定的(de)研發實力，排名第四位。中國(guó)在↑"該領域的(de)專利申請(qǐng)量雖然排↓∑名全球第六位，但(dàn)由于申請(qǐng)人÷←(rén)主要(yào)分(fēn)散在中' 小(xiǎo)公司，因此未有(yǒu)中國(guó)創‌¶©♠新主體(tǐ)跻身(shēn)全球前十行(xíng)列。

　　圖 4 所示為(wèi)全球主要(yào)創新主體(tǐ)的₹σ≠(de)專利申請(qǐng)趨勢。分(fēn)析可(kě)知(zhī★ δ§)，近(jìn) 20 年(nián)來(lái)，‍><精工(gōng)愛(ài)普生(shēng)的(d←★±e)專利申請(qǐng)量總體(tǐ)呈α↕現(xiàn)增長(cháng)态勢，尤其是(sh왕♠) 2013 年(nián)以後申請(qǐng)量出現(xiàn)急速上(δ≈shàng)升，雖然2017—2019 年(nián)略有(yǒu)下(xiàγ$¶)降，但(dàn)其申請(qǐng)量仍然遠(yuǎn)超其他(tā)競  φ争對(duì)手，可(kě)見(jiàn)其近(jìn)些(xiē)年(ni≤☆$♣án)在該領域創新趨向活躍，技(jì)術(shù)發展迅速。佳能(néng)和≈> (hé)惠普的(de)專利申請(qǐng)量總體(tǐ)也(yě↕§)呈現(xiàn)平穩增長(cháng)趨勢，βγ每年(nián)申請(qǐng)量均在 50 件(σ∏>‌jiàn)以內(nèi)。馬姆傑特科(kē)技(jì)的♦¥(de)專利申請(qǐng)趨勢波動幅度較大(dà)，其申請(qǐng π​)量在 2011 年(nián)以前增長(cháng)較快(kuài)π≠σ ，并且大(dà)多(duō)年(nián)份超越了(le)精工(gōng)愛σβ(ài)普生(shēng)、佳能(néng)和(h¥"¶é)惠普，但(dàn)自(zì) 2011年(nián)達到(dào)峰值後開↔÷♠(kāi)始急速下(xià)降，發展後勁不(bù)足。而兄弟(dì)工(gōn$÷g)業(yè)的(de)專利申請(qǐng)量保持相(xiàng↔&$γ)對(duì)穩定态勢，大(dà)多(duō)年(nián)π>☆£份申請(qǐng)量在 10 ～ 20 件(jiàn)★≈¥↑之間(jiān)。

　　4. 重要(yào)技(jì)術(shù)分(fēn)支分(fēn)析★" σ

　　專利數(shù)量較多(duō)的(de)技(jìΩλ)術(shù)分(fēn)支通(tōng)常被認為(wèi)是(shì)較↑×為(wèi)重要(yào)的(de)技(jì)術(s★∞♠★hù)分(fēn)支，技(jì)術(shù$∏)創新相(xiàng)對(duì)較為(wèi)活躍π←。按照(zhào) CPC 分(fēn)類号将使用(yòng)擦拭結♣←¥™構對(duì)打印噴嘴 進行(xíng)清理(lǐ)技(jγφוì)術(shù)領域分(fēn)為(wèi) 4 個(gè)重要(yào)技(↓ ♣jì)術(shù)分(fēn)支，分(fēn) 别為(wèi)：B41★>J2/16538(刷子(zǐ)或擦拭器(qì)刮闆清潔噴嘴);B41J2/16♠₩β★541(從(cóng)擦拭器(qì)或刮闆除去(qù)沉積物(wù€δ©)的(de)裝置);B41J2/1654≥©σ​4(擦拭器(qì)的(de)定位結構);B41J2002/1655(清潔帶清&→®潔噴嘴)。

　　圖 5 所示為(wèi)該領域重要(yà♠∏∞®o)技(jì)術(shù)分(fēn)支的(de)專利申請(qǐφ★∞ng)量趨勢。分(fēn)析可(kě)知(zhī)，該領域創新主體(& ↑ tǐ)近(jìn)十年(nián)來(lái)在B41J2/16538₽©、B41J2/16544、 B41J2002/1655 ♥ 這(zhè) 3個(gè)分(fēn)支的(de)創新相(xαΩλiàng)對(duì)較為(wèi)活躍，專利申請(qǐng)量在 波動中保✔☆σ持大(dà)幅增長(cháng)，2017 年(nián)這(z$®¥αhè)3 個(gè)分(fēn)支的(de)申請®•(qǐng)量均達到(dào)峰值;而B41J2/16541 分(fēnπ")支的(de)專利申請(qǐng)量長(cháng ₹)期保持平穩态勢，可(kě)見(jiàn)創新主體(tǐ)在該分(ε←β→fēn)支的(de)創新活力相(xiàng)對(duì)較弱。

　　圖 6 所示為(wèi)全球主要(yào)申請(qǐng)國(gu↔"♦™ó)的(de)專利技(jì)術(shù)分(fēn)布情況。分(fēn)析•∑Ω★可(kě)知(zhī)， B41J2/16538(刷子(zǐ)或擦βΩ©>拭器(qì)刮闆清潔噴嘴)是(shì)該 ∞領域最受關注的(de)技(jì) 術(shù)分(fēn)支，各≤α>主要(yào)申請(qǐng)國(guó)在該"<"α分(fēn)支的(de)專利申請(qǐng)ε∞ 量均較大(dà)。日(rì)本和(hé)美(♣×měi)國(guó)在該領域 4 大(dà)分(fēn)支的(d±¥≈e)專利申請(qǐng)量均名列前兩位，遠(yuǎn)超其®↔∑↔他(tā)國(guó)家(jiā)，創新活躍度全面領先，而 ‌®≥其他(tā)國(guó)家(jiā)在上(shàn↔★g)述4 個(gè)分(fēn)支的(de)λ ∏申請(qǐng)量均不(bù)足 100 件(jià$★☆♦n)，技(jì)術(shù)實力相(xiàng☆§§•)對(duì)較弱。

　　圖 7 所示為(wèi)全球主要(yào)創新主體(tǐ)σ₩的(de)專利技(jì)術(shù)分(fēn)布情況。分 ₹₩(fēn)析可(kě)知(zhī)，該領域排名前 5 的(↔σ♣de)創新主體(tǐ)如(rú)精工(gōng)愛≤♣↓(ài)普生(shēng)、佳能(néng)¶<πδ、惠普、馬姆傑特科(kē)技(jì)、兄弟(dì)工(gōng)​♠‍§業(yè)在各技(jì)術(shù)分(fēn)支均有(yǒu)專利布局，研發©≥≠涉及面均較廣。B41J2/16538 仍是'₩♣ (shì)行(xíng)業(yè)巨頭最熱(rè)衷研究的(de)技(jì)Ω ©術(shù)分(fēn)支，專利申請(q​₽ ≠ǐng)量明(míng)顯高(gāo)于₩¶其他(tā)分(fēn)支，說(shuōσα♥)明(míng)全球主要(yào)創新主體(tǐ)在該領€≠域的(de)研發重點主要(yào)集中在采用(yòn±π×λg)刷子(zǐ)或擦拭器(qì)刮闆清潔噴嘴方面。

　　重點專利技(jì)術(shù)分(fēn)析

　　1. 刷子(zǐ)或擦拭器(qì)刮闆清潔 ∑♠≤噴嘴

　　對(duì)于擦拭器(qì)刮闆清潔噴嘴的(de)技(jì)術↔Ω♠(shù)研究主要(yào)在于對(duì)擦拭器(qì)σ§$結構和(hé)安裝 方式等方面的(de)改​↕進。如(rú)圖8所示，惠普公司的(de)專利申請(qǐng) (CN1028π™₹☆58545A)中公開(kāi)的(de)擦拭器(qì)©π↑包括：第一(yī)擦拭器(qì)區(qū)段，其寬度σ∑大(dà)緻等于小(xiǎo)打印頭組件(j©®​iàn)的(de)孔口區(qū)的(deε​₩)寬度;鄰接所述第一(yī)擦拭器(qì☆‌≈₩)區(qū)段的(de)分(fēn)離(lí)器(qì);第二擦拭器∑ ♣(qì)區(qū)段，其鄰接所述分(fēn)離(lí)器∑← (qì)，從(cóng)而使得(de)第一✔ (yī)擦拭器(qì)區(qū)段的(de)擦拭動作(zuò)不≈​(bù)受第二擦拭器(qì)區(qū)段的(de)影(yǐng)響，所述第一(♥♣♦↓yī)、第二擦拭器(qì)區(qū)段和(hé)分(f∞γ£♠ēn)離(lí)器(qì)的(de)組合寬度大(dà)緻←₽等于大(dà)打印頭組件(jiàn)的(de)孔口區(qū)的(de)寬度，↔→←α将同一(yī)個(gè)擦拭器(qì)設置成兩≤"♦段可(kě)以同時(shí)擦拭不(bù)同大(dà)<εε÷小(xiǎo)的(de)噴嘴表面。擦拭器(qì)傾斜設置在安裝座上λ±(shàng)，針對(duì)沒有(yǒu)角度的(de)擦拭器(q★✔♥ì)，當擦拭器(qì)刮片清理(lǐ)打印頭組件(jiàn)時(shí)， ↓εδ彎曲的(de)擦拭器(qì)刮片中存儲的(de)能(néng)量會$♠∑(huì)被立即全部釋放(fàng)。相(xiàng)反，針對(duì)有‌∞×(yǒu)角度的(de)擦拭器(qì)，諸如(rú)擦拭器↔♦'≤(qì)逐漸與打印頭組件(jiàn)結合并脫離(lí)結合，在時(shí)間(≠ε<jiān)上(shàng)擴散了(le)能(néng)量釋放(fàng)•"δγ，從(cóng)而降低(dī)了(le)其幅值，改善了(le)伴÷$Ω‍随著(zhe)擦拭過程的(de)聲學質量。

　　2. 從(cóng)擦拭器(qì)或刮闆除去(qù)沉積的(dβφ e)裝置

　　擦拭器(qì)在擦拭過程中會(huì ♥)被噴嘴表面的(de)油墨污染，影(yǐng)響下 ✔✘₹(xià)次擦拭，因此需要(yào)對(duì)其進行(xíng)清•&γ潔。如(rú)圖 9 所示，三緯國(guó)際立體(tǐ)列印科(kē)技§✔π(jì)公司的(de) 專利申請(qǐng)(≠'CN108943720A)中公開(kāi)的↔±‌(de)從(cóng)擦拭器(qì)除去(qù)沉積的(de)裝™₩★δ置，當清潔著(zhe)色噴頭 20 時(&✔₹shí)，活動刮片200 旋轉使其接觸端 220 移出清潔槽γ±ββ 100 的(de)開(kāi)口 101，移動過程幹涉吸水(sh≈φuǐ)幹涉件(jiàn) 300，吸水(shuǐ)幹涉件(jiàn) 300吸♣₩₽收接觸端 220 上(shàng)沾附的(de)清潔液10，由此避免接觸端 2•φα20 刮刷著(zhe)色噴頭 20 時(∏​∏←shí)将過多(duō)的(de)清潔液 10  β沾附至著(zhe)色噴頭 20 上(shàng)，進​≠‌而避免沾附在著(zhe)色噴頭 20 上(shàn"¥g)的(de)清潔液 10 沾附料粉而形成污泥。著(zh₩☆×↔e)色噴頭 20 接觸接觸端 220 并且水(s&≠huǐ)平往複移動使接觸端 220 刮除著(zhe)色噴頭 20 上(₹••shàng)附著(zhe)的(de)污泥，待清潔完成後‍≠φ™，活動刮片 200旋 轉使其接觸端 220向清潔槽 100 <λ≥內(nèi)移動，此時(shí)吸水(shuǐ)幹涉件(ji÷©àn)300 移出接觸端 220 的(de)×σ₽λ移動行(xíng)程，避免吸附接觸端 220 上(shàng)沾§←£±附的(de)污泥。活動刮片200 的(de)接觸÷ ☆‌端 220 浸入清潔液 10 中，由清潔液→& 10 溶解接觸端 220 上(shàng)沾附的(de)污泥，且接觸端 ★ 220 進一(yī)步移動至接觸沉水(shuǐ)幹涉件(™☆¶jiàn) 400，沉水(shuǐ)幹涉件(jiàn) 400 刮除接觸端 ★¥©"220 上(shàng)沾附的(de)污泥，由此清潔活動刮片 ₹δε§200 以供下(xià)次清潔著(zhe)色噴頭20。

　　3. 擦拭器(qì)的(de)定位結構

　　擦拭器(qì)在擦拭噴嘴時(shí)需要(yào)驅動裝置将擦→∞拭器(qì)定位到(dào)噴嘴表面。如(rú)圖 10 所示  ¥，明(míng)碁電(diàn)通(tōng)股份有(yǒ✔ u)限公司的(de)專利申請(qǐng)(CN1332085A‌ ε)中公開(kāi)的(de)擦拭器(qì)定位結×δ‌構，在維護座的(de)殼體(tǐ)中設置有(yǒu)清潔¶£≤橇，且該清潔橇能(néng)前後滑動。在噴嘴進入維護區(qū)以後，φ✔☆清潔橇與殼體(tǐ)的(de)相(xiàng)對(duì)運動會(h←✔πuì)迫使刮片座從(cóng)刮片座塢滑入工(gōng)作(♠αzuò)區(qū)中。簡易的(de)鎖定裝置會(hu  σì)固定清潔橇，并使該刮片座維持在适當位置。當噴墨打印頭離(lí)開(kāi)'≈維護座時(shí)，噴嘴會(huì)被加以清潔，且在清潔完成後，打印頭會(hu×>♠&ì)解除該鎖定裝置，清潔橇回到(dào)原始位₽ 置，從(cóng)而使刮片座移回刮片座塢中，不(bù)再與打印頭的♥↓ (de)噴嘴連動。

　　4. 清潔帶清潔噴嘴

　　通(tōng)過清潔帶清潔噴嘴時(s±± ★hí)，一(yī)般結合使用(yòng)清潔液可(kě)以₩✘ •達到(dào)更好(hǎo)的(de)清潔 效果。如​↑✔(rú)圖11 所示，富士膠片株式會(huì)社的(de)專利申請(qǐ≠↕→←ng)(WO2016047420A1) 中公開(kāi)的(de)™'​擦拭器(qì)，送出側網狀物(wù)芯 102 ε♥​是(shì)水(shuǐ)平地(dì)延伸并以能(n₹↓"εéng)夠繞軸旋轉的(de)方式被支承的‌≥™♥(de)圓柱狀部件(jiàn)，在送出側✔±網狀物(wù)芯 102 的(de)外(wài)周面卷繞有(yǒu)噴嘴擦σ‌拭片 120。另一(yī)方面，卷繞側網狀物(wù)芯 1₩‍γπ04 是(shì)水(shuǐ)平地(dì) ∞>®延伸并被支承為(wèi)能(néng)夠繞軸旋轉<₩✔♦的(de)圓柱狀部件(jiàn)，從(cóng)送出側網狀物(wù)芯 ♠∞102 送出并擦拭了(le)噴嘴面57K 的(de)噴嘴≠β擦拭 片120 卷繞成卷狀。從(cóng)送出側網狀芯 102  σ送出的(de)噴嘴擦拭片 120 被按壓輥 110 ♣↕按壓于噴墨頭 56K 的(de)噴嘴面 57K，而擦拭附著(zhe)于噴∑©★嘴面 57K 的(de)油墨等液滴。然後，擦拭了( αδle)液滴的(de)噴嘴擦拭片 120 到(dào)達卷繞γ©側網狀物(wù)芯 104而被卷繞，從(c∑Ω‍óng)而高(gāo)效地(dì)利用(yòng)噴嘴擦拭片 120★₩$ 擦拭噴嘴面 57K。由于利用(yòng)清洗液賦予機(jī)構 93¶" 賦予清洗液108，因此能(néng)夠達到(dào)更有(yǒ δ¶u)效的(de)擦拭效果。

　　本文(wén)對(duì)使用(yòngφε')擦拭結構對(duì)打印噴嘴進行(xíng)清理(lǐ)技(δφ↓jì)術(shù)領域的(de)專利現(xiàn)狀進行(xí♦≥♦ng)了(le)分(fēn)析，可(kě)以為(wèi)創新主體(t≠♦ǐ)的(de)技(jì)術(shù)研發和(hé✘®)創新突破、專利布局策略提供參考。從(cóng)數✘©(shù)據統計(jì)和(hé)技(jì)術(shù)發展狀況‍∞γ分(fēn)析可(kě)以看(kàn)出，近(jìn) 20 年(niá♦≥n)來(lái)該領域全球專利申請(qǐng)量總體(tǐ)上(εβ¥→shàng)呈波動發展态勢，2016 年(α$<↑nián)之前是(shì)行(xíng)業¶αδ♣(yè)成 長(cháng)期，每年(nián)₽←專利申請(qǐng)量相(xiàng)對(duì)較少(s÷λhǎo);自(zì) 2017 年(nián)開©✔↑(kāi)始，該領域技(jì)術(shù)研究和(hé)專利保護進入快(÷'÷kuài)速提升階段，專利申請(qǐng)量顯著增加。另外(wài)Ωα，該領域的(de)日(rì)本專利申請(qǐng)占據半壁江山(shān≥♥✔)，全球排名前十的(de)創新主體(tǐ)有(yǒu) 6→™Ω 位來(lái)自(zì)日(rì)本，研發實力具有(yǒu)絕對(duì)領☆ε™>先優勢。

　　目前，該領域主要(yào)技(jì)術(shù)分(fēn∞₽)支發展較為(wèi)成熟，發展曆程中多(duō)次出現(xφ↕ iàn)申請(qǐng)高(gāo)峰并伴φα♦随核心技(jì)術(shù)的(de)突破，說(shuō)≥₩明(míng)該領域的(de)技(jì)術≠$(shù)發展具有(yǒu)持續性和(h∏±é)很(hěn)強的(de)生(shēng)命力，δ✘ε¥尤其是(shì)近(jìn)年(nián™>)來(lái)該領域全球專利申請(qǐng)明(mí‍αng)顯呈現(xiàn)走高(gāo)趨勢，可(kě)以預見(ji↔₹àn)未來(lái)會(huì)有(yǒu)新的(de)核心技(jì)術(sh±Ω≈λù)誕生(shēng)，專利申請(qǐng)量将再創高"♥φ(gāo)峰。